本设备通过对真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量及工艺过程的全自动控制，以及所具有的安全互锁、智能监控、在线状态记忆、断点保护等功能。使设备的安全性、重复性、稳定性、可靠性得到有效保证。
产品主要性能指标：
| 型号 | RIE-24000 |
| 真空系统 | 进样室：机械泵系统；刻蚀室：分子泵机组 |
| 样品尺寸 | 500×400mm |
| 刻蚀材料 | SiO2、Si3N4等 |
| 刻蚀不均匀性 | ≤ ±5% |
| 自动化程度 | 真空系统、机械手送/取样片、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制。 |
| 人机界面 | Windows环境、触摸屏操作 |
| 操作方式 | 全自动方式、非全自动方式 |
| 配套件选配 | 可选择进口件或国产件 |
| 送/取样片方式 | 机械手自动送/取片 |
